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リード吸着剤を用いたプラント設計について

ヒ素吸着剤のケース

プラント設計:ヒ素吸着剤のケース

ヒ素吸着塔を2塔直列で繋ぎ通水を行います。1塔目出口濃度が所定濃度を超えた時点で2塔目単独運転に切り替え、1塔目の樹脂を抜き出して弊社工場へ発送します。
再生については基本弊社工場で実施し、ヒ素を脱着処理した後返送いたします。
返送後、再生樹脂を再度吸着塔へ充填し、充填後はNo.2→No.1の2塔直列通水に切り替えて通水を行い、交互に繰り返しながら運転を継続します。
また、浄水処理の場合はヒ素の吸着塔の後段に活性炭塔を設置する必要があります。


フッ素、ホウ素吸着剤のケース

プラント設計:フッ素、ホウ素吸着剤のケース

吸着塔を2塔直列で繋ぎ通水を行います。1塔目出口濃度が所定濃度を超えた時点で2塔目単独運転に切り替え、1塔目を再生します。再生終了後はNo.2→No.1の2塔直列通水に切り替えて通水を行い、以後交互に繰り返して運転を行います。
再生時に発生した廃液について、フッ素処理の場合では前段に凝沈設備がある場合には前段へと戻して凝沈処理することで余分な設備は不要となります。ホウ素処理の場合は発生した濃厚廃液について蒸発濃縮やカテナチオアクアによる凝沈処理によって処理を行い、希薄廃液については原水に合わせて処理を行います。
処理水の目的濃度が低い場合は安全のため吸着塔3塔で構成し、そのうち2塔を直列で通水して残り1塔は再生待機が望ましいです。前塔出口濃度が所定濃度を越えた時点で後塔と再生待機塔の直列通水に切り替え、前塔を再生することで連続運転を行います。
また、浄水処理用途の場合はヒ素の吸着塔の後段に活性炭塔を設置する必要があります。
なおフッ素やホウ素処理は原水濃度が高く再生間隔も短くなることが多いため、基本的に現地に再生設備も併設させるのが通常ですが、設置が難しい場合にはヒ素処理と同様に弊社にて再生処理を承ることも可能です。



※ 処理対象水性状、処理対象元素、原水中の濃度、希望処理水濃度、1時間当たりの処理水量、1日及び1年間の稼働日数をご連絡いただければ基本設計を行うことができます。またここに示したものは代表的なものであり、お客様の設備の状況により変更の可能性がありますので、弊社営業部にお問い合わせください。